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May 29, 2019
Connessione Categoria: Pulizia della lastra di silicio
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Tag:
#Pulizia chimica industriale #Detersivo della piastrina di silicio #prodotti chimici di pulizia ultrasonica
Breve: Scopri la soluzione di pulizia per wafer di silicio a gruppo singolo di Changzhou Junhe Technology, che offre un perfetto rapporto prestazioni-prezzo per le industrie IT e delle batterie solari. Questo prodotto brevettato garantisce un efficiente sgrassaggio e soddisfa i requisiti ROHS.
Caratteristiche del prodotto correlate:
  • Prodotto singolo di gruppo con un eccellente rapporto prestazioni-prezzo (PPR).
  • Privo di calcio, magnesio, metalli, rame, piombo e fosforo, conforme agli standard ROHS.
  • La formulazione a bassa schiuma previene il trabocco durante la pulizia a ultrasuoni.
  • Prestazioni superiori di sgrassaggio per applicazioni IT ad alta precisione.
  • Liquido da incolore a giallastro con un peso specifico di 1.000-1.100.
  • Livello di pH elevato (13.0-14.0) per una pulizia efficace.
  • Facile da usare con istruzioni chiare per risultati ottimali.
  • Disponibile in varie opzioni di confezionamento (20kg/cartone, 25kg/fusto di plastica, 1000kg/fusto).
FAQ:
  • Per quali settori è progettata la soluzione di pulizia di wafer di silicio Single Group?
    È progettato per le industrie IT e delle batterie solari, in particolare per lo sgrassaggio di wafer di silicio di livello elettronico e di grado solare.
  • Il prodotto è conforme agli standard ambientali e di sicurezza?
    Sì, è privo di sostanze nocive come calcio, magnesio, metalli, rame, piombo e fosforo, ed è conforme ai requisiti ROHS.
  • Quali sono le istruzioni per l'uso consigliate per questo prodotto?
    Riempire il serbatoio di pulizia con acqua pura per tre quarti, aggiungere l'agente a una concentrazione del 3%, riscaldare a 50-65°C e processare per 2-5 minuti. Evitare l'esposizione all'aria per prevenire l'ossidazione.
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